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激光原理實驗設備-半導體泵浦激光原理實驗裝置實驗以808nm半導體泵Nd:YVO4激光器為研究對象，學生通過搭建整個實驗系統，完成各部分實驗，從而學習半導體泵浦激光器的調試方法.

電子及激光散斑實驗系統包括激光散斑照相和電子散斑干涉兩部分。利用二次曝光散斑圖進行物體表面面內位移場的測試，以及由此引伸出來的應變、應力場測試、距離、速度測試、物體內在缺陷和振動分析是散斑效應Z有前途的應用領域。利用電子散斑干涉對物體離面位移進行測量，同時對傳統的干版曝光和計算機圖形處理兩種方法作比較，以加深對散斑干涉的理解。

連續光學傳遞函數測量儀--為了測量傳遞函數,因連續可變的條紋間隙所產生的干涉圖可用作可撓光的圖靶。靶的產生,正弦,或方形波,或用在光學部件的躍變對于評定部件的調制傳遞函數和相位傳遞函數都是必須；光學系統的成像過程研究和像質評價是光學信息處理的重要內容。而基于頻譜分析方法和線性系統的光學傳遞函數，通過表征光學系統對不同空間頻率的目標的傳遞性能，能客觀有效地分析整套光學系統的信息傳遞性能

氦氖激光器模式分析儀具有計算機控制，界面顯示，自動記錄干涉圖譜，高分辨率，低噪聲影響，高靈敏度，快速響應的光電接收器等特點，采用模式清晰的氦氖激光器做光源，光路易調、穩定、精度高等性能；是以幾支具有不同模式的He-Ne激光器為例，從它們展示出的頻譜結構入手，來和研究激光器不同的縱模、不同的橫模所具有的場分布特征，從而得出縱橫個數、縱模頻率間隔、橫模個數、橫模頻率間隔、橫模模序等結果。

半導體激光器實驗儀-通過測量半導體激光器的功率，電壓和電流，讓學生了解半導體激光器在連續輸出下的工作特性。用MXYD4000-6光學多道分析器觀測，半導體激光器注入電流小于閾值時發射的熒光，和大于閾值電流時產生激光振蕩的譜線變化。

氦氖激光器實驗儀-通過氦氖激光器的裝調，改變諧振腔的長度，觀察激光模式的變化，來培養學生實驗的動手能力。使用共焦球面掃描干涉儀，讓學生較直觀地觀察橫模和縱模的頻譜分布。加深對物理概念的理解；用Z簡捷的方法，測量He-Ne激光器的發散角。